[发明专利]封装结构、电子装置及封装方法在审

专利信息
申请号: 201810701544.9 申请日: 2018-06-29
公开(公告)号: CN108832023A 公开(公告)日: 2018-11-16
发明(设计)人: 钱玲芝;张嵩;洪瑞;谷朋浩 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L23/29;H01L21/56
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王晓燕
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种封装结构、电子装置以及封装方法。该封装结构包括:第一无机层、有机层和第一化学交联层。有机层与所述第一无机层堆叠设置;第一化学交联层位于所述第一无机层与所述有机层之间,且与所述第一无机层和所述有机层接触;所述第一化学交联层包括具有两亲基团的交联材料,所述两亲基团包括亲无机官能团和亲有机官能团,所述亲无机官能团与所述第一无机层通过第一化学键结合,并且所述亲有机官能团与所述有机层通过第二化学键结合。该封装结构能够增加第一无机层与有机层之间的结合强度。
搜索关键词: 无机层 有机层 封装结构 化学交联 化学键结合 无机官能团 电子装置 封装 亲有机官能团 有机官能团 堆叠设置 交联材料
【主权项】:
1.一种封装结构,包括:第一无机层;有机层,与所述第一无机层堆叠设置;以及第一化学交联层,位于所述第一无机层与所述有机层之间,且与所述第一无机层和所述有机层接触;其中,所述第一化学交联层包括具有两亲基团的交联材料,所述两亲基团包括亲无机官能团和亲有机官能团,所述亲无机官能团与所述第一无机层通过第一化学键结合,并且所述亲有机官能团与所述有机层通过第二化学键结合。
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