[发明专利]导电叠层结构及其制造方法、显示装置有效
| 申请号： | 201810703765.X | 申请日： | 2018-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN108845705B | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 来宇浩 | 申请（专利权）人： | 广州国显科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 周耀君 |
| 地址： | 511300 广东省广州市增城区永*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种导电叠层结构及其制造方法、显示装置，通过在基材上制备出诱导配向结构，以利用所述诱导配向结构引导纳米银线的形成方向，使得纳米银线在预设的方向上交叉搭接，并构成纳米银线薄膜。本方法能够在保证纳米银线薄膜低雾度的前提下，提高纳米银线薄膜的导电性，使得制备出的导电叠层结构具有更优的触控性能以及更佳的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 导电 结构 及其 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种导电叠层结构，其特征在于，包括：一基材；诱导配向结构，形成在所述基材上；纳米银线薄膜，形成在所述基材上并覆盖所述诱导配向结构；其中，所述纳米银线薄膜包括经由所述诱导配向结构引导在预设的方向上交叉搭接的多条纳米银线。
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