[发明专利]光学测定装置以及光学测定方法有效
| 申请号： | 201810708073.4 | 申请日： | 2018-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN109211741B | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 泉谷悠介;若山育央 | 申请（专利权）人： | 大塚电子株式会社 |
| 主分类号： | G01N15/02 | 分类号： | G01N15/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的光学测定装置包含：主体基座、可移动地结合于所述主体基座的光学基座、固定于所述光学基座的测定光学系统、以及使所述光学基座相对于所述主体基座进行相对移动的光学基座移动机构。所述光学基座移动机构使所述光学基座相对于所述主体基座在内部测定位置与外部测定位置之间进行相对移动。内部测定位置是指所述测定光学系统的测定对象位置位于设定在所述主体基座内的内部测定对象位置的位置。外部测定位置是指所述测定光学系统的测定对象位置位于设定在所述主体基座外的外部测定对象位置的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 测定 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学测定装置，包含：主体基座；光学基座，能够移动地结合于所述主体基座；测定光学系统，固定于所述光学基座；以及光学基座移动机构，使所述光学基座相对于所述主体基座在内部测定位置与外部测定位置之间进行相对移动，所述内部测定位置是基于所述测定光学系统的测定对象位置成为设定在所述主体基座内的内部测定对象位置的位置，所述外部测定位置是基于所述测定光学系统的测定对象位置成为设定在所述主体基座外的外部测定对象位置的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大塚电子株式会社，未经大塚电子株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810708073.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种基于图像识别对碎米率的快速检测方法
- 下一篇：一种大气污染检测方法
