[发明专利]一种碱性光刻胶剥离液在审

专利信息
申请号: 201810717379.6 申请日: 2018-07-03
公开(公告)号: CN108803263A 公开(公告)日: 2018-11-13
发明(设计)人: 刘江华;孙翠侠;贾亚军;潘阳 申请(专利权)人: 昆山欣谷微电子材料有限公司
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42
代理公司: 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 代理人: 李静
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种碱性光刻胶剥离液,包括有机醇胺、极性有机溶剂、腐蚀抑制剂、表面活性剂,本发明中的光刻胶剥离液,可以在30℃至100℃下完全去除晶圆表面上的光刻胶残留物,完全去除晶圆表面光刻胶残余物的同时,不腐蚀晶圆基底材料,特别是不腐蚀晶圆背部金属化层Ti/Ni/Ag层,在高温退火之后,能有效防止晶圆背面Ti/Ni/Ag白斑以及色差现象的产生。
搜索关键词: 光刻胶剥离液 去除 光刻胶残留物 极性有机溶剂 腐蚀 表面活性剂 腐蚀抑制剂 高温退火 金属化层 晶圆背部 晶圆背面 晶圆表面 色差现象 有机醇胺 残余物 晶圆基 白斑 晶圆
【主权项】:
1.一种碱性光刻胶剥离液,包括有机醇胺、极性有机溶剂、腐蚀抑制剂、表面活性剂,所述有机醇胺为单乙醇胺、N‑ 二甲基乙醇胺、N‑二乙基乙醇胺、异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、3‑丙醇胺、2‑氨基乙醇胺、乙基二乙醇胺、N‑(2‑氨基乙基)乙醇胺、二甘醇胺中的一种或多种,所述极性有机溶剂为亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醇醚中的一种或多种,所述腐蚀抑制剂为含有氮、氧、硫等原子的有机腐蚀抑制剂,其中较佳的为多元醇类,脲类、酚类,唑类和有机羧酸类中的一种或几种,所述表面活性剂聚醚非离子表面活性剂,如NP‑10、AEO9、OP‑10、NP‑8.6、JFC、 Genapol EP2584、 Genapol EP2454、Genapol X080、Rhodoclean EFC&MSC、Pluronic PE6200、Pluronic PE6400、Pluronic PE6800。
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