[发明专利]用于光掩模的表膜组合物和表膜、形成该表膜的方法、掩模版、曝光设备和制造器件的方法在审
| 申请号： | 201810735125.7 | 申请日： | 2018-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN109307983A | 公开（公告）日： | 2019-02-05 |
| 发明（设计）人： | 郑盛骏;申铉振;金尚元;朴晟准;薛珉洙;李东郁;李润姓;A.郑 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F1/56 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 金拟粲 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供用于光掩模的表膜组合物和表膜、形成该表膜的方法、掩模版、曝光设备和制造器件的方法，所述用于光掩模的表膜由所述表膜组合物形成。所述表膜组合物包括：选自石墨烯量子点和石墨烯量子点前体的至少一种，所述石墨烯量子点具有约50nm或更小的尺寸；和溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 表膜 光掩模 量子点 石墨烯 曝光设备 掩模版 组合物形成 溶剂 前体 制造 | ||
【主权项】：
1.表膜组合物，其包括：石墨烯量子点化合物；和溶剂，其中所述石墨烯量子点化合物包括选自具有50nm或更小的尺寸的石墨烯量子点、或者石墨烯量子点前体的至少一种。
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