[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置在审
| 申请号： | 201810737984.X | 申请日： | 2018-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN108803115A | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 徐文清;李小龙;张小祥;刘明悬;吴祖谋;郭会斌;宋勇志 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G09F9/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，用于提升阵列基板的工艺良率及显示效果。所述阵列基板包括衬底基板以及依次层叠设在所述衬底基板一侧的信号线、有机膜层和电极层；所述有机膜层上设有减薄区域，所述减薄区域在所述衬底基板的正投影不覆盖所述信号线在所述衬底基板的正投影。本发明实施例提供的阵列基板及其制作方法、显示装置用于TFT阵列基板。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列基板 衬底基板 显示装置 减薄区域 有机膜层 信号线 正投影 制作 显示效果 依次层叠 电极层 良率 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底基板以及依次层叠设在所述衬底基板一侧的信号线、有机膜层和电极层；所述有机膜层上设有减薄区域，所述减薄区域在所述衬底基板的正投影不覆盖所述信号线在所述衬底基板的正投影。
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