[发明专利]一种光催化石墨烯/硅复合膜及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201810753275.0 | 申请日： | 2018-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN109107557B | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 高超;彭蠡;刘一晗;郭燕 | 申请（专利权）人： | 杭州高烯科技有限公司;浙江大学 |
| 主分类号： | B01J21/18 | 分类号： | B01J21/18;C01B32/184;C01B32/40 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 黄欢娣;邱启旺 |
| 地址： | 311113 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光催化石墨烯/硅复合膜、制备方法以及应用，该薄膜材料由石墨烯纳米薄膜磁控溅射纳米硅层形成。其中石墨烯为层间交联结构，电导率为1‑1.5MS/m。在光照射下，石墨烯硅界面层会产生光生载流子；在外电场作用下，形成电子界面和空穴界面。电子层和空穴层持续的作用下，催化二氧化碳和水形成甲烷、一氧化碳以及氧气。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光催化 石墨 复合 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种光催化石墨烯/硅复合膜，其特征在于，硅纳米颗粒负载在石墨烯膜表面，形成硅纳米膜；所述石墨烯膜层间交联，交联度在1‑5％，所述石墨烯膜的厚度为10‑100nm，缺陷密度ID/IG≤0.01。
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