[发明专利]一种像素限定层结构及其制备方法

摘要

本发明提供了一种像素限定层结构的制备方法，包括提供基板，在基板上间隔设置多个像素界定结构；配制聚噻吩衍生物溶液，将聚噻吩衍生物溶液涂布于基板和多个像素界定结构的上表面和侧表面，形成聚噻吩衍生物层；通过掩膜板使像素界定结构的上表面的聚噻吩衍生物层曝光转变为疏有机溶剂层，基板上的聚噻吩衍生物层避光，像素界定结构的侧表面的聚噻吩衍生物层受到光衍射转变为亲有机溶剂层，亲有机溶剂层的材质的极性大于乙酸乙酯的极性；通过显影过程，去除基板上的聚噻吩衍生物层，得到像素限定层结构，其中，像素界定结构的上表面为疏有机溶剂层，侧表面为亲有机溶剂层；制得的像素限定层结构可以缓解喷墨打印过程中液滴混淆造成的混色。

主权项

1.一种像素限定层结构的制备方法，其特征在于，包括：提供基板，在所述基板上间隔设置多个像素界定结构；配制聚噻吩衍生物溶液，将所述聚噻吩衍生物溶液涂布于所述基板和多个所述像素界定结构的上表面和侧表面，形成聚噻吩衍生物层；通过掩膜板使所述像素界定结构的上表面的所述聚噻吩衍生物层曝光转变为疏有机溶剂层，所述基板上的所述聚噻吩衍生物层避光，所述像素界定结构的侧表面的所述聚噻吩衍生物层受到光衍射转变为亲有机溶剂层，所述亲有机溶剂层的材质的极性大于乙酸乙酯的极性；通过显影过程，去除所述基板上的所述聚噻吩衍生物层，得到像素限定层结构，其中，所述像素界定结构的上表面为所述疏有机溶剂层，侧表面为所述亲有机溶剂层。