[发明专利]大尺寸基板曝光机在审
| 申请号： | 201810757869.9 | 申请日： | 2018-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN110716391A | 公开（公告）日： | 2020-01-21 |
| 发明（设计）人： | 葛黎黎;杨志勇;朱岳彬 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 11332 北京品源专利代理有限公司 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种大尺寸基板曝光机，包括：曝光系统、测量系统、运动台系统、照明系统、掩模传输系统、外部框架、核心曝光测量框架、内部支撑框架和位置调节组件，外部框架安装有照明系统和掩模传输系统；核心曝光测量框架设置在外部框架内侧，安装有曝光系统和测量系统；内部支撑框架设置在外部框架和核心曝光测量框架之间，安装有运动台系统；位置调节组件分别与核心曝光测量框架和内部支撑框架连接，位置调节组件被配置为当内部支撑框架随运动台系统运动发生偏移变形时，位置调节组件能够向与内部支撑框架的偏移变形方向相同的方向发生结构形变，调节运动台系统和曝光系统的相对位置不变。上述大尺寸基板曝光机能够提高大尺寸基板的曝光精度。 | ||
| 搜索关键词： | 内部支撑 位置调节组件 外部框架 运动台 大尺寸基板 曝光系统 曝光 测量 掩模传输系统 测量系统 框架设置 偏移变形 照明系统 曝光机 结构形变 框架连接 位置不变 系统运动 配置 | ||
【主权项】：
1.一种大尺寸基板曝光机，包括：曝光系统、测量系统、运动台系统、照明系统和掩模传输系统(703)，其特征在于，还包括：/n外部框架，安装有所述照明系统和所述掩模传输系统(703)；/n核心曝光测量框架，设置在所述外部框架内侧，安装有所述曝光系统和所述测量系统；/n内部支撑框架，设置在所述外部框架和所述核心曝光测量框架之间，且与所述核心曝光框架连接，安装有所述运动台系统；以及，/n位置调节组件，分别与所述核心曝光测量框架和所述内部支撑框架连接，所述位置调节组件被配置为当所述内部支撑框架随所述运动台系统运动发生偏移变形时，所述位置调节组件能够向与所述内部支撑框架的偏移变形方向相同的方向发生结构形变，调节所述运动台系统和所述曝光系统的相对位置不变。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司，未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810757869.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
