[发明专利]基片位置调整方法、存储介质和基片处理系统

摘要

本发明提供一种基片位置调整方法、存储介质和基片处理系统。即使在不设置具有调节送出时的晶片的方向的功能的处理装置，也能够在小型的基片处理系统中短时间且低成本进行旋转式处理时的晶片的对位。本方法包括：由抗蚀剂涂敷装置实施EBR处理的旋转式处理步骤；由检查装置的拍摄装置对被实施了旋转处理的晶片进行拍摄的拍摄步骤；获取预先存储的、使晶片从抗蚀剂涂敷装置移动至检查装置期间晶片的方向发生变化的量的信息即变化量信息的变化量信息获取步骤；基于拍摄步骤的拍摄结果，获取沿晶片的周向的抗蚀剂膜的除去宽度的信息作为实施结果信息的结果信息获取步骤；和基于变化量信息和实施结果信息，修正EBR处理时的基片的位置的修正步骤。

主权项

1.一种基片位置调整方法，其调整在具有旋转处理装置的基片处理系统中的、旋转式处理时的基片的位置，所述旋转处理装置一边使所述基片旋转一边对该基片实施作为规定的处理的所述旋转式处理，所述基片处理系统还包括为了基片的检查而拍摄该基片的表面的检查装置，所述基片位置调整方法的特征在于，包括：由所述旋转处理装置实施所述旋转式处理的旋转式处理步骤；由所述检查装置拍摄被实施了所述旋转式处理的基片的拍摄步骤；获取预先存储的变化量信息的变化量信息获取步骤，所述变化量信息是使基片从所述旋转处理装置移动至所述检查装置期间该基片的方向发生变化的量的信息；结果信息获取步骤，基于所述拍摄步骤的拍摄结果，获取沿基片的周向的所述旋转式处理的实施结果的信息作为实施结果信息；和至少基于所述变化量信息和所述实施结果信息，修正所述旋转式处理时的基片的位置的修正步骤。