[发明专利]一种微叠堆栈结构全息镭射的制作方法

摘要

本发明公开了一种防伪膜生产工艺，尤其是一种微叠堆栈结构全息镭射的制作方法，包括如下步骤，S1、制版；S2、涂布；S3、模压；S4、镀铝。激光束采用具有与图案相配合的形状的激光束构成。过感光板采用与图案相配合的形状的激光束进行曝光，形状各异的块状图案分别光刻再通过堆栈组合从而形成相应的完整图案，该过程中曝光的图案效率高，图案边缘比较平整光滑，图案清晰。另外，采用复制子板进行使用，并且在子版磨损后可以采用母版继续复制使用，在模压中采用了微叠无版缝技术，通过两组版辊进行替换模压后再进行高温镀铝形成镀铝膜。

主权项

1.一种微叠堆栈结构全息镭射的制作方法，其特征在于包括如下步骤，S1、制版：采用激光束将图案雕刻在光感板上，再使用显影液将图案在感光板上显现，制成母版后复制子版使用；S2、涂布：将涂料涂覆在薄膜上；S3、模压：将子板安装到压辊上，对涂覆有涂料的薄膜进行辊压形成图案；S4、镀铝：将模压后的薄膜经过高温喷铝形成镀铝膜；其中，所述激光束采用具有与图案相配合的形状的激光束构成。