[发明专利]用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法有效
| 申请号： | 201810770835.3 | 申请日： | 2018-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN108848606B | 公开（公告）日： | 2019-09-13 |
| 发明（设计）人： | 贾先禄;宋国芳;张贺;王景峰 | 申请（专利权）人： | 中国原子能科学研究院 |
| 主分类号： | H05H7/08 | 分类号： | H05H7/08;H05H13/00 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 曹晓斐 |
| 地址： | 10241*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种回旋加速器及其内部离子源位置的调节方法，其中该调节方法包括以下步骤：在所述内部离子源的尾部法兰处设置用于调节所述内部离子源位置的位置调节结构，其中所述达标位置在所述位置调节结构的调节位置范围之内；在将所述内部离子源与中心区主磁铁进行装配时，根据引出束流各个参数的要求标准，使用所述位置调节结构对所述内部离子源的位置进行调节；当所述引出束流的各个参数均达标时，停止对所述内部离子源的位置调节，并计算出此时所述内部离子源所处的位置，将该位置作为所述内部离子源的所述达标位置。本发明能将内部离子源的位置调节到达标位置，保证回旋加速器整机的稳定运行。 | ||
| 搜索关键词： | 内部离子源 位置调节结构 回旋加速器 位置调节 束流 达标 尾部法兰 稳定运行 标位置 中心区 主磁铁 整机 装配 保证 | ||
【主权项】：
1.一种用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法，用于将所述内部离子源的位置调节至达标位置，包括内部离子源及主磁铁，所述内部离子源的支撑件与主磁铁通过法兰进行连接固定，其特征在于，包括以下步骤：在所述内部离子源的支撑件的尾部法兰处设置用于调节所述内部离子源位置的位置调节结构，其中所述达标位置在所述位置调节结构的调节位置范围之内；所述位置调节结构包括设于所述尾部法兰的平面调节结构及轴向调节结构，所述平面调节结构用于旋转所述尾部法兰，所述轴向调节结构用于调节所述尾部法兰的轴向距离及轴向角度；在将所述内部离子源与中心区主磁铁进行装配时，根据引出束流各个参数的要求标准，使用所述位置调节结构对所述内部离子源的位置进行调节；当所述引出束流的各个参数均达标时，停止对所述内部离子源的位置调节，并计算出此时所述内部离子源所处的位置，将该位置作为所述内部离子源的所述达标位置。
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