[发明专利]涂布型染料偏光膜的制作方法及显示装置有效
| 申请号： | 201810779337.5 | 申请日： | 2018-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN109031495B | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 陈珍霞;查宝 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂;王中华 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种涂布型染料偏光膜的制作方法及显示装置。所述涂布型染料偏光膜的制作方法包括如下步骤：将金属盐、有机配体和第一溶剂混合成第一溶液；将所述第一溶液与去质子化溶剂混合均匀，并密封静置预设时长，以通过自组装得到金属有机框架；用含有染料的溶液浸泡所述金属有机框架，使得染料分子嵌入到所述金属有机框架中，以得到偏光膜晶体，所述偏光膜晶体具有与所述染料相同的颜色；清洗所述偏光膜晶体；将偏光膜晶体涂布至基材上，得到涂布型染料偏光膜，通过将染料分子嵌入到金属有机框架中，能够提高染料排列的有序度，从而提升涂布型染料偏光膜的偏振度。 | ||
| 搜索关键词： | 涂布型 染料 偏光 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种涂布型染料偏光膜的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、将金属盐、有机配体和第一溶剂混合成第一溶液；步骤S2、提供去质子化溶剂，将所述第一溶液与去质子化溶剂混合均匀，并密封静置预设时长，以通过自组装得到金属有机框架；步骤S3、提供含有染料的溶液，取出所述金属有机框架，并用含有染料的溶液浸泡所述金属有机框架，使得染料分子嵌入到所述金属有机框架中，以得到偏光膜晶体，所述偏光膜晶体具有与所述染料相同的颜色；步骤S4、清洗所述偏光膜晶体；步骤S5、提供一基材，将偏光膜晶体涂布至基材上，得到涂布型染料偏光膜。
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