[发明专利]玻璃基板的残余应力降低方法及残余应力降低装置有效
申请号: | 201810783613.5 | 申请日: | 2018-07-17 |
公开(公告)号: | CN109455917B | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
发明(设计)人: | 八幡惠辅;小田晃一;村上政直 | 申请(专利权)人: | 三星钻石工业股份有限公司 |
主分类号: | C03B29/00 | 分类号: | C03B29/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 玉昌峰;吴孟秋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种玻璃基板的残余应力降低方法及残余应力降低装置,能够降低与树脂等一体地形成的玻璃基板的残余应力。玻璃基板(G)的残余应力降低方法具有激光照射步骤,在该激光照射步骤中,通过向玻璃基板(G)的残余应力高的部分中的多个地方中的每一个照射预定时间的激光从而进行加热。 | ||
搜索关键词: | 玻璃 残余 应力 降低 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种玻璃基板的残余应力降低方法,降低玻璃基板的残余应力,其中,所述玻璃基板的残余应力降低方法具备激光照射步骤,在所述激光照射步骤中,通过向所述玻璃基板的残余应力高的部分中的多个地方中的每一个照射预定时间的激光从而进行加热。
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