[发明专利]图形优化方法及掩膜版制造方法

摘要

本发明揭示了一种图形优化方法，所述图形优化方法包括：提供待优化图形，所述待优化图形包括第一图形和第二图形，所述待优化图形具有热区域；对所述第一图形和所述第二图形进行选择性尺寸调整；依据所述热区域对所述选择性尺寸调整进行反馈操作；以及依据所述反馈操作获得优化后的图形。于是，在进行选择性尺寸调整后，进一步对该选择性尺寸调整进行反馈操作，使得选择性尺寸调整对实际图形的影响更合理，有助于提高具有热区域的图形的精度。由此进行的掩膜版制造，可以提高掩膜版的质量。

主权项

1.一种图形优化方法，其特征在于，包括：/n提供待优化图形，所述待优化图形包括第一图形和第二图形，所述第一图形和第二图形中皆具有关键图形，所述第二图形的关键图形对应位于第一图形的关键图形之间；/n对所述第一图形和所述第二图形进行选择性尺寸调整；以及/n依据所述关键图形继续调整所述第一图形和所述第二图形，以提高曝光后所述第一图形和所述第二图形的图形精度。/n