[发明专利]一种纳米金属光栅的制作方法及纳米金属光栅在审
| 申请号： | 201810798425.X | 申请日： | 2018-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN109031496A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 侯俊;陈书志 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B5/18;G02F1/1335;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 李庆波 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米金属光栅的制作方法及纳米金属光栅。该方法包括：提供一基板，在基板上形成平坦层；在平坦层上形成刻蚀阻挡层；在刻蚀阻挡层上形成金属层；在金属层上形成具有光栅周期图形的压印胶；以压印胶为掩模，对金属层进行刻蚀，以形成光栅层。通过上述方式，本发明能够避免出现平坦层被刻蚀而出现平坦层阻隔水氧的能力下降以及因光学衍射导致显示不均的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 纳米金属 平坦层 金属层 刻蚀阻挡层 压印胶 基板 刻蚀 光学衍射 光栅周期 显示不均 光栅层 水氧 掩模 制作 阻隔 | ||
【主权项】：
1.一种纳米金属光栅的制作方法，其特征在于，所述方法包括：提供一基板，在所述基板上形成平坦层；在所述平坦层上形成刻蚀阻挡层；在所述刻蚀阻挡层上形成金属层；在所述金属层上形成具有光栅周期图形的压印胶；以所述压印胶为掩模，对所述金属层进行刻蚀，以形成光栅层。
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