[发明专利]硅片的返工系统及方法

摘要

本发明涉及一种硅片的返工系统，包括：检测装置、分类装置、抛光装置及清洗装置；所述检测装置对硅片进行检测以判断其规格参数，若达到预设值则为优质类，反之则为瑕疵类；所述抛光装置对瑕疵硅片抛光；所述清洗装置对抛光后的硅片进行清洗，所述检测装置对预清洗的硅片进行平整度检测以初步定级；对再次清洗的硅片进行微粒污染度的检测并定级，所述分类装置区分出合格硅片和不合格硅片。本发明中通过对瑕疵硅片同时返工和降级，减少了硅片的返工和清洗次数，避免了硅片表面由于多次清洗被腐蚀而造成表面不平的问题，从而避免了污染物附着在硅片表面凹点处的风险，既提高了硅片的良率，又防止了多次的返工对硅片质量造成的潜在损害。

主权项

1.一种硅片的返工系统，其特征在于，包括：检测装置、分类装置、抛光装置及清洗装置；所述检测装置对加工完成的硅片逐一进行检测以判断其规格参数，若规格参数均达到预设值，则划分为优质类，反之，则将硅片划分为瑕疵类；所述抛光装置对归属于瑕疵类型的硅片进行抛光；所述清洗装置对抛光后的硅片进行预清洗，所述检测装置对预清洗的硅片进行平整度检测，并初步定级；所述清洗装置对经初步定级后的硅片再次进行清洗，所述检测装置对其进行微粒污染度的检测并定级，所述分类装置区分出合格硅片和不合格硅片。