[发明专利]光掩模坯料、光掩模坯料制造方法和光掩模制造方法

摘要

本发明涉及一种光掩模坯料、光掩模坯料制造方法和光掩模制造方法。提供光掩模坯料，其包括透明衬底、在该衬底上的含铬材料的第一膜和与该第一膜邻接设置的含有硅/氧的材料的第二膜。该第二膜包括与该第一膜邻接的第一层和在膜厚方向上与该第一层间隔的第二层。该第一层的氧含量低于该第二层的氧含量。在该第一膜的蚀刻过程中，该设置防止蚀刻速率在该第一膜与该第二膜之间的界面处加速。

主权项

1.光掩模坯料，其被加工为透射光掩模，该透射光掩模用于使用波长至多250nm的曝光光形成图案的光刻,该光掩模坯料包括：透明衬底，第一膜，其设置在该衬底上并且由含铬材料形成，该含铬材料可通过使用氯气和氧气的气体混合物的氯/氧系干蚀刻来蚀刻并且耐受使用含氟气体的氟系干蚀刻，和第二膜，其与该第一膜邻接地设置并且由含有硅/氧的材料形成，该含有硅/氧的材料在该第一膜的氯/氧系干蚀刻过程中基本上未被蚀刻，在将该第一膜图案化时该第二膜用作蚀刻掩模，该第二膜包括与该第一膜邻接的区域和在膜厚方向上与该邻接的区域间隔的一侧，该邻接的区域的氧含量低于该间隔的一侧的氧含量。