[发明专利]一种多晶硅薄膜层的均匀性检测装置有效
| 申请号： | 201810846315.6 | 申请日： | 2018-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN110763434B | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 王琦 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/00 | 分类号： | G01M11/00;G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 201506 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示器件检测领域，特别涉及一种多晶硅薄膜层的均匀性检测装置。上述检测装置包括：信号发射模块、信号检测模块、电压信号产生模块、分析模块；分析模块用于根据信号检测模块检测到的信号以及电压信号产生模块反馈的电压信号确定待测面板内部多晶硅薄膜层的均匀性。上述信号发射模块发射的检测信号可以穿过待测面板，检测待测面板的多晶硅薄膜层内部结构的均匀性，信号检测模块自待测面板的另一侧检测穿过待测面板后的信号；电压信号产生模块向待测面板提供相应的电压信号，分析模块确定待测面板内部多晶硅薄膜层的均匀性。上述装置能够对待测面板内部多点位的多晶硅薄膜层进行检测，对多晶硅薄膜层的均匀性检测更加准确。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多晶 薄膜 均匀 检测 装置 | ||
【主权项】：
1.一种多晶硅薄膜层的均匀性检测装置，其特征在于，包括：/n用于自待测面板一侧向待测面板发射检测信号的信号发射模块；/n用于自所述待测面板另一侧检测由所述信号发射模块所发射的并穿过所述待测面板后的信号的信号检测模块；/n用于向待测面板提供电压信号的电压信号产生模块；/n与所述信号检测模块以及电压信号产生模块信号连接的分析模块，所述分析模块用于根据所述信号检测模块检测的信号以及所述电压信号产生模块反馈的电压信号确定所述待测面板内部多晶硅薄膜层的均匀性。/n
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