[发明专利]多带电粒子束描绘装置以及多带电粒子束描绘方法

摘要

本发明提供能够在多束描绘中缩短最大照射时间的多带电粒子束描绘装置及方法。该装置具备：组合设定处理电路，按成为多带电粒子束的设计上的照射位置的多个设计栅格的每个设计栅格，使用实际的照射位置与该设计栅格接近的4个以上的束，设定实际的照射位置包围该设计栅格的各3个束所组合的多个组合；第1分配系数运算处理电路，按照多个组合的每个组合，对构成该组合的3个束，运算对构成该组合的3个束的各束的第1分配系数，该第1分配系数用于以分配后的各分配剂量的重心位置以及总和与该设计栅格位置以及对该设计栅格照射的预定的剂量一致的方式分配对该设计栅格照射的预定的剂量；第2分配系数运算处理电路，按照4个以上的束的每个束，运算将对与该束对应的第1分配系数合计而得到的值除以多个组合的数而得到的、相对于该设计栅格的4个以上的束的各束的第2分配系数。

主权项

1.一种多带电粒子束描绘装置，具备：放射源，放射带电粒子束；成形孔径阵列基板，受到上述带电粒子束的照射，形成多带电粒子束；组合设定处理电路，按成为上述多带电粒子束的设计上的照射位置的多个设计栅格的每个设计栅格，使用实际的照射位置与该设计栅格接近的4个以上的束，设定上述实际的照射位置包围该设计栅格的各3个束所组合成的多个组合；第1分配系数运算处理电路，按照上述多个组合的每个组合，对构成该组合的3个束，运算对构成该组合的上述3个束的各束的第1分配系数，该第1分配系数用于以分配后的各分配剂量的重心位置以及总和与该设计栅格位置以及对该设计栅格照射的预定的剂量一致的方式分配对该设计栅格照射的预定的上述剂量；第2分配系数运算处理电路，按照上述4个以上的束的每个束，运算将对与该束对应的上述第1分配系数进行合计而得到的值除以上述多个组合的数而得到的、相对于该设计栅格的上述4个以上的束的各束的第2分配系数；以及描绘机构，使用对各设计栅格照射的预定的上述剂量分别被分配给对应的4个以上的束的多带电粒子束，对试样描绘图案。