[发明专利]光刻机光瞳校正器及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201810895283.9 申请日: 2018-08-08
公开(公告)号: CN108983559A 公开(公告)日: 2018-12-11
发明(设计)人: 朱思羽;张方;曾宗顺;马晓喆;程伟林;曾爱军;黄惠杰 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种光刻机光瞳校正器及其使用方法,其构成包括滤光元件和致动元件,每个致动元件与至少一个滤光元件相结合,所述的滤光元件是可折叠的,借助所述的致动元件在光瞳面内多维度运动。所述的滤光元件包括固定机构、牵引机构,以及连接在所述的固定机构和牵引机构之间的挡光机构,所述的固定机构和牵引机构至少一个与所述的致动元件相结合。在本发明光刻机光瞳校正器使用方法中,通过调整所述滤光元件在光瞳面内的位置,改变能量衰减百分比,将光瞳特性参数校正至满足要求的范围内,从而实现对光瞳能量分布平衡性的校正。
搜索关键词: 滤光元件 致动元件 光瞳 固定机构 牵引机构 光刻机 校正器 光瞳面 校正 多维度运动 挡光机构 可折叠的 能量分布 能量衰减 特性参数 平衡性
【主权项】:
1.一种光刻机光瞳校正器,其特征在于:包括滤光元件(1)和致动元件(2),每个致动元件(2)与至少一个滤光元件(1)相结合,所述的滤光元件(1)是可折叠的,借助所述的致动元件(2)在光瞳面内多维度运动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810895283.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top