[发明专利]一种高阻膜及其制备工艺和应用在审
申请号: | 201810902043.7 | 申请日: | 2018-08-09 |
公开(公告)号: | CN109280886A | 公开(公告)日: | 2019-01-29 |
发明(设计)人: | 肖亮灿;石洁 | 申请(专利权)人: | 滁州盛诺电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;C23C14/34 |
代理公司: | 合肥维可专利代理事务所(普通合伙) 34135 | 代理人: | 吴明华 |
地址: | 239064 安徽省滁州市经济*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种高阻膜,由以下组分组成:氧化锌、氧化锡和氧化铝。本发明公开了一种高阻膜的加工方法和应用。本发明的一种高阻膜,具备抗静电作用,在可见光范围内,具备高透过率,透光率可达到98.5%。该一种高阻膜应用于FPD显示屏上,起到抗静电作用,具备良好的透光性,且不产生屏蔽,不影响器件的触控功能。本发明的一种高阻膜的制备工艺,选用高纯度4N级氧化锡靶材与氧化锌靶材进行镀膜匹配,并使用特殊的镀膜工艺及特殊的退火工艺,得到发明的一种高阻膜,透光率高,附着力强。 | ||
搜索关键词: | 高阻 抗静电作用 制备工艺 透光率 氧化锡 氧化锌靶材 可见光 触控功能 镀膜工艺 附着力强 高透过率 退火工艺 影响器件 高纯度 膜应用 透光性 氧化锌 氧化铝 靶材 镀膜 屏蔽 显示屏 匹配 应用 加工 | ||
【主权项】:
1.一种高阻膜,其特征在于,由以下组分组成:氧化锌、氧化锡和氧化铝。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于滁州盛诺电子科技有限公司,未经滁州盛诺电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810902043.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类