[发明专利]并联MOS晶体管有效

专利信息
申请号: 201810928981.4 申请日: 2018-08-15
公开(公告)号: CN109411471B 公开(公告)日: 2023-08-25
发明(设计)人: F·塔耶 申请(专利权)人: 意法半导体(鲁塞)公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L27/02
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开的实施例涉及并联MOS晶体管。提供一种电子芯片,其包括彼此并联电耦合的多个第一晶体管。多个第一隔离沟槽被包括在电子芯片中,并且第一晶体管通过第一隔离沟槽彼此分开。每个第一隔离沟槽具有深度和最大宽度,并且深度取决于最大宽度或者是最大宽度的函数。
搜索关键词: 并联 mos 晶体管
【主权项】:
1.一种电子芯片,包括:多个第一晶体管,彼此并联电耦合;和多个第一隔离沟槽,所述第一晶体管通过所述第一隔离沟槽彼此分开,所述第一隔离沟槽中的每一个具有深度和最大宽度,其中所述第一隔离沟槽的深度是最大宽度的函数。
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