[发明专利]填充剂滴下装置有效
| 申请号： | 201810939735.9 | 申请日： | 2018-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN108993830B | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 屈丽桃;赵利豪;吴解书;田彪;金韬;邹清华;窦义坤 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C11/10 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;安利霞 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种填充剂滴下装置，包括：盛放管，用于盛放填充剂，一端具有填充剂出口；磁性件，容纳于盛放管的填充剂内；在第一状态下，磁性件离开填充剂出口、并沿盛放管的长度方向运动直至第一位置，在第二状态下，磁性件由第一位置反向运动直至封堵填充剂出口；第一线圈和第二线圈，均缠绕于盛放管的外周面上，且第一线圈和第二线圈在盛放管的长度方向上间隔预设距离，第一线圈靠近填充剂出口设置；控制结构，用于控制第一线圈和第二线圈产生磁场的参数，以使得磁性件在第一状态和第二状态之间切换，参数包括：第一线圈和第二线圈通电与否、和/或第一线圈和第二线圈的通断电切换时间间隔、和/或第一线圈和第二线圈在通电状态下的电流大小。 | ||
| 搜索关键词： | 填充 滴下 装置 | ||
【主权项】：
1.一种填充剂滴下装置，其特征在于，包括：盛放管，用于盛放填充剂，所述盛放管的一端具有填充剂出口；具有第一状态和第二状态的磁性件，所述磁性件容纳于所述盛放管的填充剂内；其中，在所述第一状态下，所述磁性件离开所述填充剂出口、并沿所述盛放管的长度方向进行运动直至移动至第一位置，在所述第二状态下，所述磁性件由所述第一位置反向运动直至封堵所述填充剂出口；能够在通电状态下对所述磁性件提供磁力的第一线圈和第二线圈，所述第一线圈和所述第二线圈均缠绕于所述盛放管的外周面上，且所述第一线圈和所述第二线圈在所述盛放管的长度方向上间隔预设距离，所述第一线圈靠近所述填充剂出口设置；控制结构，用于控制所述第一线圈和所述第二线圈产生磁场的参数，以使得所述磁性件在所述第一状态和所述第二状态之间切换，其中，所述参数包括：所述第一线圈和所述第二线圈之间的距离、和/或所述第一线圈和所述第二线圈通电与否、和/或所述第一线圈和所述第二线圈的通断电切换时间间隔、和/或所述第一线圈在通电状态下的电流大小、和/或所述第二线圈在通电状态下的电流大小。
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