[发明专利]管状反应器的补气装置在审
| 申请号： | 201810948880.3 | 申请日： | 2018-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN108754457A | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 王杨阳;孙友巍;练菊;孙嵩泉 | 申请（专利权）人： | 普乐新能源（蚌埠）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;H01L31/18 |
| 代理公司： | 蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 34102 | 代理人： | 王琪;和聚龙 |
| 地址： | 233030 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明给出了一种管状反应器的补气装置；包括至少一根补气管，所述补气管后端通入镀膜所需的工艺气体，补气管前端贯穿炉尾盖板伸入LPCVD管炉内，补气管前端面开有供工艺气体排出的出气孔。通过补气管向LPCVD管炉内输送工艺气体，补充主进气管喷出的工艺气体的量，改善某区域内LPCVD镀膜的片间膜层厚度均匀性，使用本管状反应器的补气装置可以增加炉管长度，以增加恒温区长度，达到增加产能的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 补气管 工艺气体 管状反应器 补气装置 镀膜 管炉 膜层厚度均匀性 主进气管 盖板 出气孔 恒温区 前端面 产能 炉管 炉尾 排出 喷出 伸入 贯穿 补充 | ||
【主权项】：
1.一种管状反应器的补气装置，其特征为：包括至少一根补气管，所述补气管后端通入镀膜所需的工艺气体，补气管前端贯穿炉尾盖板伸入LPCVD管炉内，补气管前端面开有供工艺气体排出的出气孔。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
