[发明专利]掩膜组件、投影模组、光电装置和电子设备在审
申请号: | 201810981437.6 | 申请日: | 2018-08-27 |
公开(公告)号: | CN110865512A | 公开(公告)日: | 2020-03-06 |
发明(设计)人: | 李宗政;林君翰;陈冠宏;周祥禾;詹明山 | 申请(专利权)人: | 南昌欧菲生物识别技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38;G03F1/52 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 黄德海 |
地址: | 330013 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种掩膜组件、投影模组、光电装置和电子设备。掩膜组件包括掩膜和反射镀膜。反射镀膜设置在掩膜上,掩膜组件形成有透光区域与非透光区域,反射镀膜与非透光区域对应,反射镀膜用于反射射向非透光区域的激光。本发明实施方式的掩膜组件通过在非透光区域设置反射镀膜,使得激光发射器射向非透光区域的激光不是被吸收而是被反射镀膜反射回去,被反射镀膜反射的激光在掩膜组件和激光发射器之间来回反射并最终从透光区域射出以形成激光图案,相较于激光被非透光区域吸收,激光被反射时损耗较小,从而可以更充分的利用激光,进而减小投影模组的功耗。 | ||
搜索关键词: | 组件 投影 模组 光电 装置 电子设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南昌欧菲生物识别技术有限公司,未经南昌欧菲生物识别技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810981437.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:训练分类模型的装置和方法、以及分类装置和方法
- 下一篇:甲醛降解装置
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备