[发明专利]一种半导体器件防蚀剂清洗剂及制备方法在审
| 申请号： | 201810995297.8 | 申请日： | 2018-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN108998267A | 公开（公告）日： | 2018-12-14 |
| 发明（设计）人： | 李少伟 | 申请（专利权）人： | 李少伟 |
| 主分类号： | C11D1/72 | 分类号： | C11D1/72;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/06;C11D3/28;C11D3/30;C11D3/34;C11D3/37;C11D3/60;C11D11/00 |
| 代理公司： | 合肥市科融知识产权代理事务所(普通合伙) 34126 | 代理人： | 陈思聪 |
| 地址： | 210000 江苏省南京市建邺区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体器件防蚀剂清洗剂，包括以下按照重量份的原料：柠檬酸35‑45份、金属防蚀剂14‑21份、聚乙二醇13‑20份、氢氧化铵6‑13份、三聚磷酸钠4‑9份、缓蚀剂14‑21份、渗透剂3‑8份、去离子水24‑36份；采用天然提取物柠檬酸，无腐蚀无污染，具有优异的洗净能力和浸润能力，刺激性极低，长时间使用对人体无害，对半导体器件的表面没有任何损伤，不会腐蚀金属部分，使用安全可靠，是一种绿色环保、不损伤半导体器件的清洗剂，与配伍的金属防蚀剂共同作用产生更强的清洗和保护效果，能适用于不同尺寸半导体器件的清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体器件 清洗剂 柠檬酸 金属防蚀剂 防蚀剂 清洗 损伤 尺寸半导体 三聚磷酸钠 天然提取物 聚乙二醇 绿色环保 氢氧化铵 去离子水 洗净能力 作用产生 缓蚀剂 渗透剂 无腐蚀 重量份 制备 浸润 腐蚀 金属 | ||
【主权项】：
1.一种半导体器件防蚀剂清洗剂，其特征在于，包括以下按照重量份的原料：柠檬酸35‑45份、金属防蚀剂14‑21份、聚乙二醇13‑20份、氢氧化铵6‑13份、三聚磷酸钠4‑9份、缓蚀剂14‑21份、渗透剂3‑8份、去离子水24‑36份。
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