[发明专利]发光单元及其制造方法在审
申请号: | 201811000766.4 | 申请日: | 2018-08-30 |
公开(公告)号: | CN109216523A | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 张桂洋;查国伟;杨勇 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L33/44 | 分类号: | H01L33/44;H01L33/46;H01L33/00 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本揭示提供一种发光单元及其制造方法。发光单元包含:发光二极管芯片,包含一出光面;以及光学功能膜,设置在所述发光二极管芯片的所述出光面,其中所述光学功能膜在350纳米至480纳米的波长范围的光透过率大于95%。 | ||
搜索关键词: | 发光单元 发光二极管芯片 光学功能膜 出光面 光透过率 波长 制造 | ||
【主权项】:
1.一种发光单元,其特征在于,包含:发光二极管芯片,包含一出光面;以及光学功能膜,设置在所述发光二极管芯片的所述出光面,其中所述光学功能膜在350纳米至480纳米的波长范围的光透过率大于95%。
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