[发明专利]发光单元及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201811000766.4 申请日: 2018-08-30
公开(公告)号: CN109216523A 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 张桂洋;查国伟;杨勇 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44;H01L33/46;H01L33/00
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本揭示提供一种发光单元及其制造方法。发光单元包含:发光二极管芯片,包含一出光面;以及光学功能膜,设置在所述发光二极管芯片的所述出光面,其中所述光学功能膜在350纳米至480纳米的波长范围的光透过率大于95%。
搜索关键词: 发光单元 发光二极管芯片 光学功能膜 出光面 光透过率 波长 制造
【主权项】:
1.一种发光单元,其特征在于,包含:发光二极管芯片,包含一出光面;以及光学功能膜,设置在所述发光二极管芯片的所述出光面,其中所述光学功能膜在350纳米至480纳米的波长范围的光透过率大于95%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811000766.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top