[发明专利]掩膜组件及其制造方法有效
| 申请号： | 201811005162.9 | 申请日： | 2018-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN108754419B | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 林治明 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供一种掩膜组件及其制造方法，其包括异型条状掩膜体，异型条状掩膜体包括异型遮挡片和支撑条，支撑条之间形成一间隔第二掩膜板和异型遮挡片接触的间隔空间。本申请通过异型条状掩膜体的间隔空间的设置，避免了第二掩膜板和第一掩膜板的异型条状掩膜体存在非线性接触的情况，提高了玻璃基板和第二掩膜板贴合的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 组件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜组件，包括框架、固定设置在所述框架上的第一掩膜板和叠设在所述第一掩膜板上的第二掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜板包括均固定连接于所述框架的至少两条异型条状掩膜体和至少两条遮挡体，所述异型条状掩膜体和所述遮挡体交叉排布形成对应于所述第二掩膜板蒸镀区的至少一个异型开口区，所述异型开口区的正投影位于对应的所述蒸镀区内；所述异型条状掩膜体包括：异型遮挡片，用于围成所述异型开口区；以及支撑条，与所述异型遮挡片的延伸方向一致且固定设置在所述异型遮挡片上，用于和所述第二掩膜板接触贴合；其中所述异型遮挡片和所述支撑条之间形成一间隔所述第二掩膜板和所述异型遮挡片接触的间隔空间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司，未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811005162.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
