[发明专利]一种发光二极管外延片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811022389.4 申请日: 2018-09-03
公开(公告)号: CN109346575B 公开(公告)日: 2020-01-21
发明(设计)人: 王海峰;芦玲;祝光辉;陈明;王淑娇;吕腾飞 申请(专利权)人: 淮安澳洋顺昌光电技术有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/00
代理公司: 21200 大连理工大学专利中心 代理人: 温福雪
地址: 223001*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于半导体器件制备技术领域,涉及一种发光二极管外延片及其制备方法。发光二极管外延片包括蓝宝石衬底、缓冲层、非故意掺杂氮化镓层、n型氮化镓层、n型电子阻挡层、应力释放层、具有新量子阱结构的发光层、p型电子阻挡层、p型氮化镓层、p型接触层。本发明创新在于设计了一种新的量子阱生长结构,通过在传统量子阱生长前后插入富铟层,减少了量子阱层铟组分的波动,在较大程度上提高了外延片的发光均匀性,进而提升了LED芯片的光效性能。
搜索关键词: 发光二极管外延 量子阱生长 制备 非故意掺杂氮化镓层 半导体器件制备 电子阻挡层 发光均匀性 量子阱结构 应力释放层 蓝宝石 光效性能 量子阱层 发光层 缓冲层 外延片 衬底 铟层
【主权项】:
1.一种发光二极管外延片,其特征在于,所述的发光二极管外延片以蓝宝石为衬底,其表面依次为缓冲层、非故意掺杂氮化镓层和n型氮化镓层,其中n型氮化镓层,以硅烷为掺杂剂;在n型氮化镓层上再依次生长n型电子阻挡层和应力释放层,其中应力释放层为数个周期的In
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