[发明专利]一种掩膜版、OLED显示基板及其制备方法有效
| 申请号： | 201811043801.0 | 申请日： | 2018-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN109136834B | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 李国伟;孙泉钦;李端明;杨晓东;郜明浩;张杨扬;刘丹 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L27/32;H01L51/00;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种OLED显示基板及其制备方法、OLED显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的OLED的像素界定结构的坡度角太大会影响封装层的有机膜的问题。本发明的OLED显示基板的制备方法简单易行，只需在像素限定结构的侧面形成至少三个坡，即可减小像素限定结构的坡度角，较小的坡度角不会影响后续形成的封装层的有机膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 oled 显示 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版，其特征在于，包括遮光区、开口区，以及设于所述遮光区、开口区之间的多个半透光区；所述半透光区的透光率不同，且由靠近遮光区一侧的半透光区至靠近开口区一侧的半透光区的透光率依次递增或递减。
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