[发明专利]一种反应釜清洗系统及清洗方法

摘要

本发明公开了一种反应釜清洗系统，包括溶剂储仓，所述溶剂储仓设有入仓口，所述入仓口通过管道与所述反应釜的底部的出料口连通；所述溶剂储仓的下部设置有出仓口，所述出仓口通过管道与所述反应釜的顶部的进料口连通，所述入仓口和所述出料口之间设有第一输送泵，所述出仓口与进料口之间设有第二输送泵，所述溶剂储仓还设有投料口，所述溶剂储仓的出仓口还通过管道与入仓口连通；所述出仓口与进料口之间还设有第二过滤器，所述第二过滤器和所述第二输送泵还位于所述出仓口和所述入仓口之间。本发明的反应釜清洗系统避免清洗溶剂在储存过程中与空气中的水反应而失效，大大提高了清洗溶剂的重复利用率，且加入到聚氨酯产品中也不会影响产品的性能。

主权项

1.一种反应釜清洗系统，包括溶剂储仓（1），所述溶剂储仓（1）设有入仓口，所述入仓口通过管道与所述反应釜（3）的底部的出料口连通；所述溶剂储仓（1）的下部设置有出仓口，所述出仓口通过管道与所述反应釜（3）的顶部的进料口连通，所述入仓口和所述出料口之间设有第一输送泵（6），所述出仓口与进料口之间设有第二输送泵（5），其特征在于，所述溶剂储仓（1）还设有投料口，所述溶剂储仓（1）的出仓口还通过管道与入仓口连通；所述出仓口与进料口之间还设有第二过滤器（4），所述第二过滤器（4）和所述第二输送泵（5）还位于所述出仓口和所述入仓口之间。