[发明专利]阵列基板及其制备方法和显示器件在审

专利信息
申请号: 201811054834.5 申请日: 2018-09-11
公开(公告)号: CN108987418A 公开(公告)日: 2018-12-11
发明(设计)人: 黄北洲 申请(专利权)人: 惠科股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 官建红
地址: 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于显示技术领域,具体涉及一种阵列基板及其制备方法和显示器件。该阵列基板包括:基板;栅极,形成于所述基板上;栅极绝缘层,形成于所述基板上并覆盖所述栅极;有源层,形成于所述栅极绝缘层上;源漏极,形成于所述有源层上;钝化层,所述钝化层覆盖所述源漏极;其中,所述源漏极与所述钝化层之间设置有用于提高所述源漏极与所述钝化层之间的粘附性的缓冲层,且所述缓冲层包覆在所述源漏极表面。本发明增设有缓冲层的阵列基板具有很好的平整度和均一性,能改善显示面板的显示过程中存在气泡,以及出现亮点或暗点的显示不均等现象。
搜索关键词: 源漏极 阵列基板 钝化层 缓冲层 基板 栅极绝缘层 显示器件 源层 制备 显示面板 均一性 平整度 粘附性 暗点 包覆 覆盖 增设
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:基板;栅极,形成于所述基板上;栅极绝缘层,形成于所述基板上并覆盖所述栅极;有源层,形成于所述栅极绝缘层上;源漏极,形成于所述有源层上;钝化层,所述钝化层覆盖所述源漏极;其中,所述源漏极与所述钝化层之间设置有用于提高所述源漏极与所述钝化层之间的粘附性的缓冲层,且所述缓冲层包覆在所述源漏极表面。
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