[发明专利]Mo-Nb合金薄膜蚀刻液组合物及利用其的显示装置用基板的制造方法有效
申请号: | 201811062832.0 | 申请日: | 2018-09-12 |
公开(公告)号: | CN110016667B | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 金童基;朴英哲;张晌勋 | 申请(专利权)人: | 东友精细化工有限公司 |
主分类号: | C23F1/26 | 分类号: | C23F1/26;G02F1/1343;G02F1/1362;H01L27/32 |
代理公司: | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人: | 杨黎峰;钟锦舜 |
地址: | 韩国全*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及Mo‑Nb合金薄膜蚀刻液组合物及利用其的显示装置用基板的制造方法,所述蚀刻液组合物包含:40重量%至60重量%的磷酸;5重量%至10重量%的硝酸;7重量%至30重量%的乙酸;0.1重量%至2重量%的磷酸盐;以及15重量%至30重量%的水。 | ||
搜索关键词: | mo nb 合金 薄膜 蚀刻 组合 利用 显示装置 用基板 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于蚀刻由Mo‑Nb合金形成的单层膜和多层膜的蚀刻液组合物,相对于全部组合物的总重量,所述蚀刻液组合物包含:40重量%至60重量%的磷酸;5重量%至10重量%的硝酸;7重量%至30重量%的乙酸;0.1重量%至2重量%的磷酸盐;以及15重量%至30重量%的水。
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