[发明专利]一种浸润式曝光扫描载台装置及晶圆曝光方法有效
| 申请号： | 201811068497.5 | 申请日： | 2018-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN110895384B | 公开（公告）日： | 2023-08-29 |
| 发明（设计）人： | 请求不公布姓名 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京名华博信知识产权代理有限公司 11453 | 代理人： | 李冬梅 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体生产领域，公开了一种浸润式曝光扫描载台装置，包括：扫描载台，设置于一浸润式曝光机装置的浸润罩的下方并供所述浸润罩的相对扫描移动；晶圆工作台，设置于所述扫描载台上，用于放置表面形成有光刻胶层的晶圆；环形缓冲圈，设置于所述扫描载台上，所述环形缓冲圈位于所述晶圆工作台的外周，所述环形缓冲圈具有供所述浸润罩下方随行的浸润液爬行的缓升斜面，使所述环形缓冲圈的高度从外边缘向内边缘逐渐增大。该浸润式曝光扫描载台装置在晶圆工作台的外周设置有环形缓冲圈，该环形缓冲圈具有供浸润液爬行的缓升斜面，从而使得浸润液平缓顺畅地与晶圆的边缘接触，有效地避免了气泡的产生，从而克服了气泡缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 浸润 曝光 扫描 装置 方法 | ||
【主权项】：
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