[发明专利]一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示装置

摘要

本申请提供了一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示装置，其中薄膜晶体管的制备方法包括：提供基板，并在基板上形成有源层；在基板以及有源层上形成金属层；对金属层进行处理，形成源电极、漏电极以及金属氧化物层，金属氧化物层覆盖源电极、漏电极和有源层，金属氧化物层将源电极和漏电极相互绝缘。通过对金属层进行处理从而同步形成源、漏电极和金属氧化物层，金属氧化物层既可以防止有源层在后续刻蚀工艺中被刻蚀液损伤，还可以防止外界的水氧对有源层造成损伤，因此，金属氧化物层的制备可以取代现有的刻蚀阻挡层和钝化层的制备，也就是无需再通过PECVD设备分步形成刻蚀阻挡层和钝化层，从而简化制备工艺、降低成本。

主权项

1.一种薄膜晶体管的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：提供基板，并在所述基板上形成有源层；在所述基板以及所述有源层上形成金属层；对所述金属层进行处理，形成源电极、漏电极以及金属氧化物层，所述金属氧化物层覆盖所述源电极、所述漏电极和所述有源层，所述金属氧化物层将所述源电极和所述漏电极相互绝缘。