[发明专利]一种气浴装置的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机有效
| 申请号： | 201811107683.5 | 申请日： | 2018-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN110941146B | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 龚辉;张洪博;孙启峰;张瑞平 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于光刻技术领域，具体公开了一种气浴装置的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机。本发明提供的栅格板设计方法包括：S1：确定栅格板的初始的设计参数，所述栅格板包括多个栅格；S2：根据设计参数，建立气浴装置的流体仿真模型；S3：计算获得流体出口的流体数据；S4：判断流体数据是否满足预设条件，如果是，执行S5，如果否，执行S6；S5：根据流体数据调整每个栅格或部分栅格的通风面积，更新设计参数并返回至S2；S6：获取每个栅格的最优通风面积。栅格板采用上述的栅格板设计方法形成，气浴装置包括上述的栅格板，光刻机包括上述的气浴装置。本发明提供的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机，提高了流体出口的流动均匀性和稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 装置 栅格 设计 方法 光刻 | ||
【主权项】：
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