[发明专利]一种制备有序金纳米帽阵列的方法

摘要

本发明公开了一种制备有序金纳米帽阵列的方法，步骤如下：将高纯铝箔置于丙酮中超声以去除表面油污，然后置于乙醇和高氯酸混合溶液中进行电化学抛光，经去离子水冲洗并氮气吹干后，得到表面呈光滑镜面的铝箔；将抛光后的铝箔置于草酸溶液中，在直流电压下进行阳极氧化，温度维持在6‑8℃，接着将样品置于铬酸和磷酸等体积混合溶液中3‑4h，随后再次进行阳极氧化，得到高度有序的PAA模板；将样品置于饱和氯化铜溶液中去除铝基底，使PAA的阻挡层暴露出来，利用电子束蒸发镀膜机将金沉积在PAA阻挡层表面，即得。该方法制备的有序金纳米帽阵列对CV分子具有最强的SERS信号增强效果，有望被应用于水产品中违禁药物的痕量检测。

主权项

1.一种制备有序金纳米帽阵列的方法，其特征在于包括如下步骤：将高纯铝箔置于丙酮中超声清洗以去除表面油污，然后置于体积比为6∶1的乙醇和高氯酸混合溶液中进行电化学抛光，电压为12‑14V，时间为6‑8min，经去离子水冲洗并氮气吹干后，得到表面呈光滑镜面的铝箔；将抛光后的铝箔置于浓度为0.5mol/L的草酸溶液中，在直流电压34‑38V下进行阳极氧化2.5‑3.5h，温度维持在6‑8℃，接着将样品置于60‑70℃的铬酸和磷酸等体积混合溶液中3‑4h以去除之前制备的氧化铝层，随后再次进行阳极氧化，时间和条件与第一次阳极氧化时相同，从而得到高度有序的PAA模板；将样品置于饱和氯化铜溶液中去除铝基底，使PAA的阻挡层暴露出来，利用电子束蒸发镀膜机将金沉积在PAA阻挡层表面，真空度为4×10−3Pa，沉积速率为0.3‑0.4Å/s，沉积厚度为28nm，即得；各原料均为重量份。