[发明专利]关键尺寸测量系统和使用其测量关键尺寸的方法有效
| 申请号： | 201811117478.7 | 申请日： | 2018-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN109540050B | 公开（公告）日： | 2022-05-24 |
| 发明（设计）人： | 朴爰柱;李亨周;崔硕桓;南东锡;韩允泽 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G01B15/00 | 分类号： | G01B15/00;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邵亚丽 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种关键尺寸测量系统，包括电压测量单元、控制单元和关键尺寸测量单元。电压测量单元可以测量光掩模的掩模图案的电势。控制单元可以包括信息存储单元，该信息存储单元用于存储关于由电压测量单元测量的掩模图案的电势的分布信息，以及关于与光掩模的掩模图案相对应的布局图案的信息。关键尺寸测量单元可由控制单元以第一测量模式和比第一测量模式运行更短时间的第二测量模式操作，并测量掩模图案的关键尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 关键 尺寸 测量 系统 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种关键尺寸测量系统，包括：电压测量单元，被配置为测量光掩模的掩模图案的电势；控制单元，包括信息存储单元，该信息存储单元被配置为存储关于由所述电压测量单元测量的所述掩模图案的电势的分布信息，以及关于与所述光掩模的掩模图案相对应的布局图案的信息；和关键尺寸测量单元，被配置为由所述控制单元以第一测量模式和比所述第一测量模式运行更短时间的第二测量模式操作，并且测量所述掩模图案的关键尺寸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社，未经三星电子株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811117478.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：采用气体快速平面度检测仪器
- 下一篇：一种晶圆测试探针卡磨损度的监控方法
