[发明专利]蒸镀设备以及蒸镀方法有效
| 申请号： | 201811119290.6 | 申请日： | 2018-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN109161853B | 公开（公告）日： | 2020-12-18 |
| 发明（设计）人： | 杨锋 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/04;C23C14/12;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 230012 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蒸镀设备以及蒸镀方法，属于显示器制备技术领域，其可至少部分解决现有蒸镀源与基板之间的距离比较小时蒸镀设备沉积的薄膜不均匀的问题。本发明的一种蒸镀设备，用于在基板上沉积薄膜，蒸镀设备包括：基板架，用于安装基板；蒸镀台，用于安装蒸镀源，蒸镀源用于将待蒸镀物质加热而形成蒸镀蒸汽；蒸镀腔室，基板架和蒸镀台以相对设置的方式安装于蒸镀腔室内，蒸镀腔室包括调节结构，调节结构用于在密封状态下调节蒸镀腔室内的空间的体积。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种蒸镀设备，用于在基板上沉积薄膜，其特征在于，所述蒸镀设备包括：基板架，用于安装所述基板；蒸镀台，用于安装蒸镀源，所述蒸镀源用于将待蒸镀物质加热而形成蒸镀蒸汽；蒸镀腔室，所述基板架和所述蒸镀台以相对设置的方式安装于所述蒸镀腔室内，所述蒸镀腔室包括调节结构，所述调节结构用于在密封状态下调节所述蒸镀腔室内的空间的体积。
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