[发明专利]研磨垫以及研磨方法有效
| 申请号： | 201811124354.1 | 申请日： | 2018-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN109590897B | 公开（公告）日： | 2020-09-22 |
| 发明（设计）人： | 王裕标 | 申请（专利权）人： | 智胜科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 张晓霞;臧建明 |
| 地址： | 中国台湾*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种研磨垫以及研磨方法，所述研磨垫适用于研磨物件且包括研磨层以及至少一沟槽。研磨层具有中央区域以及围绕中央区域的周边区域。至少一沟槽配置在研磨层中，其中至少一沟槽各具有皆位于周边区域的两端点，其中两端点包括开放式端点及封闭式端点。本发明的研磨垫在研磨制程期间，可使研磨液保持滞留或使研磨所产生的副产物有效排除。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种研磨垫，其特征在于，适用于研磨物件，所述研磨垫包括：研磨层，所述研磨层具有中央区域以及围绕所述中央区域的周边区域；以及至少一沟槽，配置在所述研磨层中，所述至少一沟槽各具有两端点皆位于所述周边区域，其中所述两端点包括开放式端点及封闭式端点，且其中所述至少一沟槽延伸通过所述中央区域。
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