[发明专利]用于光刻的设备及清洁静电式掩模固定座的方法及设备有效
| 申请号： | 201811131646.8 | 申请日： | 2018-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN109814339B | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 林钰富;张东荣;陈家桢 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 黄艳;李琛 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开提出一种用于光刻的设备，一种清洁一静电式掩模固定座的方法以及一种清洁一静电式掩模固定座的设备。用于清洁使用于一光刻系统内的静电式掩模固定座的设备，包括供应低压环境于静电式掩模固定座的一腔体，以及配置用于施加超音波至静电式掩模固定座的一超音波换能器。此设备还包括配置用于控制超音波换能器的控制器，以及一气流控制器。气流控制器配置用于使腔体加压或减压。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 清洁 静电 式掩模 固定 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻的设备，包括：一曝光腔，提供一低压环境并具有一气流控制器，该气流控制器配置用于使该曝光腔增压或减压；一静电式掩模固定座，设置于该曝光腔，该静电式掩模固定座配置用于固定一掩模；以及一超音波换能器，配置用于施加超音波至该静电式掩模固定座，其中该超音波配置用于自该静电式掩模固定座去除颗粒物质。
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