[发明专利]具有高沉积环及沉积环夹具的处理配件在审
| 申请号： | 201811141495.4 | 申请日： | 2016-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN109321890A | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 威廉·约翰森;希兰库玛·萨万戴亚;阿道夫·米勒·艾伦;王新;帕拉沙特·帕布 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/34;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文提供处理配件及包含此处理配件的处理腔室的实施方式。在一些实施方式中，处理配件包括沉积环，所述沉积环被配置而设置在基板支撑件上，所述基板支撑件被设计为用于支撑具有给定宽度的基板，所述沉积环包含：环形带，所述环形带被配置为搁置在所述基板支撑件的下突出部分上；内唇，所述内唇从所述环形带的内缘向上延伸，其中所述内唇的内表面与所述环形带的内表面一起形成具有小于所述给定宽度的宽度的中央开口，并且其中所述环形带的上表面与所述内唇的上表面之间的深度是介于约24mm与约38mm之间；通道，所述通道设置在所述环形带的径向外侧；及外唇，所述外唇向上延伸且设置在所述通道的径向外侧。 | ||
| 搜索关键词： | 环形带 沉积环 内唇 基板支撑件 配件 向上延伸 内表面 上表面 外唇 夹具 处理腔室 通道设置 中央开口 基板 内缘 配置 搁置 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种处理配件，包括：沉积环，所述沉积环被配置而设置在基板支撑件上，所述基板支撑件被设计为用于支撑具有给定宽度的基板，所述沉积环包含：环形带，所述环形带被配置而搁置在所述基板支撑件的下突出部分上；内唇，所述内唇从所述环形带的内缘向上延伸，其中所述内唇的内表面与所述环形带的内表面一起形成中央开口，所述中央开口的宽度小于所述给定宽度，其中所述环形带的上表面与所述内唇的上表面之间的深度是介于约24mm与约38mm之间，并且其中所述环形带的厚度从所述环形带的外缘到所述环形带的內缘保持恒定或不断增大；通道，所述通道设置在所述环形带的径向外侧；及外唇，所述外唇向上延伸且设置在所述通道的径向外侧。
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