[发明专利]单件式处理配件屏蔽件有效
申请号: | 201811141503.5 | 申请日: | 2015-12-08 |
公开(公告)号: | CN109585251B | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 希兰库玛·萨万戴亚;瑞安·汉森;如晓·安 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01J37/34 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 在此提供处理配件屏蔽件和含有处理配件屏蔽件的处理腔室的实施方式。在一些实施方式中,单件式处理配件屏蔽件包括:圆柱形主体,所述圆柱形主体具有上部和下部;热传递通道,所述热传递通道延伸通过上部;和盖环区段,所述盖环区段从下部径向向内延伸。 | ||
搜索关键词: | 单件式 处理 配件 屏蔽 | ||
【主权项】:
1.一种单件式处理配件屏蔽件,包括:圆柱形主体,所述圆柱形主体具有上部和下部,所述上部包括适配器区段,所述适配器区段径向向外延伸并具有安置表面和密封表面,所述安置表面用以将所述单件式处理配件屏蔽件支撑在腔室的壁上,当所述单件式处理配件屏蔽件被放置在所述腔室中时,腔室盖安置在所述密封表面上,以密封所述腔室的内侧容积;热传递通道,所述热传递通道延伸通过所述上部的所述适配器区段;和盖环区段,所述盖环区段从所述下部向下且径向向内延伸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司,未经应用材料公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811141503.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:等离子体处理装置
- 下一篇:一种基于三重四极杆质谱仪的信号处理电路