[发明专利]一种彩膜基板及其制造方法有效
| 申请号： | 201811147938.0 | 申请日： | 2018-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN109188759B | 公开（公告）日： | 2022-01-18 |
| 发明（设计）人： | 金潘;焦亚萍;祝宏勋;王志军 | 申请（专利权）人： | 南京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静 |
| 地址： | 210033 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提出一种彩膜基板及其制造方法，彩膜基板采用彩膜光罩共用的方法形成，通过共用色层光罩可以分别曝光制得黑色矩阵和色阻层，其中，黑色矩阵为正性光阻，色阻层为负性光阻。本发明提出共用色层光罩的彩膜制作思路，有效的简化了彩膜制程，提高了生产效率，节省了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 彩膜基板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：提供进行曝光的光罩S2：在基板上涂覆一层黑色矩阵的正性光阻，采用所述光罩经过n次曝光之后再显影、烘烤制作出黑色矩阵，其中n为每个像素单元的子像素的数量；S3：在步骤S2制作的基板上采用所述光罩形成色阻层，其中，n＝3或n＝4。
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