[发明专利]一种石墨基座有效
申请号: | 201811149654.5 | 申请日: | 2018-09-29 |
公开(公告)号: | CN109161873B | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
发明(设计)人: | 乔楠;徐晓波;李昱桦;刘旺平;胡加辉 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(浙江)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C30B25/12 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 322000 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种石墨基座,属于半导体技术领域。所述石墨基座上设有用于容纳衬底的多个口袋,每个所述口袋的边缘设有用于将所述衬底悬置在所述口袋内的凸块,所述凸块围成的区域内与所述石墨基座的中心之间的距离最远的部分设有凹槽。本发明通过在凸块围成的区域内与石墨基座的中心之间的距离最远的部分设有凹槽,增大这个部分与上面悬置的衬底之间的距离,从而减小这个部分传导给衬底的热量,平衡这个部分上面悬置的衬底与口袋的侧壁密切接触所升高的温度,均衡外延片各个区域的温度,使外延片各个区域的发光波长一致,提高外延片的片内均匀性和边缘良率。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 基座 | ||
【主权项】:
1.一种石墨基座,所述石墨基座上设有用于容纳衬底的多个口袋,每个所述口袋的边缘设有用于将所述衬底悬置在所述口袋内的凸块,其特征在于,所述凸块围成的区域内与所述石墨基座的中心之间的距离最远的部分设有凹槽。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的