[发明专利]一种掩膜版的量测补值方法、掩膜版及掩膜版的制备方法

摘要

本申请公开了一种掩膜版的量测补值方法、掩膜版以及掩膜版的制备方法，包括：提供一掩膜版，所述掩膜版包括显示区以及预留区，所述预留区设置有长度尺，所述掩膜版的显示区上设置有多个第一图形，根据预设距离值确定所述掩膜版上所述多个第一图形的位置；对所述多个第一图形进行图案化处理，在玻璃基板上得到与所述多个第一图形对应的多个第二图形，并获取所述多个第二图形中相邻第二图形间的实际距离值；根据所述预设距离值与所述第二图形间的实际距离值得到补偿值；根据所述补偿值对所述第二图形进行补值处理，以使在产品加工时可以通过该长度尺进行测量并进行相应的补值处理从而保证量测准确性，提高生产效率以及减少实际产品送样分析对比。

主权项

1.一种掩膜版的量测补值方法，其特征在于，包括：提供一掩膜版，所述掩膜版包括显示区以及预留区，所述预留区设置有长度尺，所述掩膜版的显示区上设置有多个第一图形，根据预设距离值确定所述掩膜版上所述多个第一图形的位置；对所述多个第一图形进行图案化处理，在玻璃基板上得到与所述多个第一图形对应的多个第二图形，并获取所述多个第二图形中相邻第二图形间的实际距离值；根据所述预设距离值与所述第二图形间的实际距离值得到补偿值；根据所述补偿值对所述第二图形进行补值处理。