[发明专利]一种气浴装置及光刻机有效
| 申请号： | 201811158115.8 | 申请日： | 2018-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN110966916B | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 李先明 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B9/02 | 分类号： | G01B9/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种气浴装置及光刻机，属于光刻机技术领域。该气浴装置包括进风口、处理腔和出风口，所述出风口包括第一通道组和第二通道组，所述第一通道组和所述第二通道组朝靠近干涉仪方向依次设置，其中，所述第一通道组的气浴方向与水平面的夹角V大于所述第二通道组的气浴方向与水平面的夹角W。光刻机包括上述气浴装置。本发明通过设置气浴方向不同的第一通道组和第二通道组，实现对干涉仪中的测量光路和参考光路进行吹扫，使得干涉仪的参考光路也处于气浴温控区，保证了干涉仪测量结果的精确性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 装置 光刻 | ||
【主权项】：
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