[发明专利]浸润式雷射加工方法及其系统有效
| 申请号： | 201811167381.7 | 申请日： | 2018-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN111085784B | 公开（公告）日： | 2022-04-29 |
| 发明（设计）人： | 林亚力;伊利亚·维立科夫斯基;范德米尔·韩卓申科 | 申请（专利权）人： | 英属开曼群岛商纳诺股份有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/38 | 分类号： | B23K26/38;B23K26/122;B23K26/70 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 梁丽超 |
| 地址： | 英属西印度开曼群岛,大开曼岛KY1-1208,邮*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明揭露了一种浸润式雷射加工方法及其系统，该方法包括：提供具有第一形状的基板；将基板设置于承载体中，承载体中注入液体；提供雷射源以产生雷射光束；根据应用程序，雷射光束沿着第二形状切割基板，让基板分离为主要基板与次要基板，次要基板自基板脱离并沉入承载体的底部，或者根据应用程序，雷射光束在基板钻孔，以在基板中形成孔洞与衍生物，衍生物自基板脱离并沉入承载体的底部；以及获得主要基板、具有孔洞的基板或具有孔洞的主要基板。本发明另外提供了一种浸润式雷射加工系统。 | ||
| 搜索关键词： | 浸润 雷射 加工 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英属开曼群岛商纳诺股份有限公司，未经英属开曼群岛商纳诺股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811167381.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种垃圾发电路灯装置
- 下一篇：一种具有蓝牙的一体化太阳能路灯
