[发明专利]反应腔及化学气相沉积装置

摘要

本发明提供了一种反应腔及化学气相沉积装置，反应腔包括腔本体和设置于腔本体内的支撑座和支架组件，支架组件包括第一支架和第二支架，第一支架的第一端和第二支架的第一端设置于支撑座上，第一支架的第二端和第二支架的第二端为自由端，且第一支架的第二端至支撑座的距离大于第二支架的第二端至支撑座的距离，第一支架的第二端用于朝向支撑座移动。本方案避免了样品表面与支架接触面上的沉积盲区，只需进行一次开炉沉积即可完成对整个样品表面的沉积覆盖，而不需要进行二次开炉沉积，很大程度上提高了沉积效率，降低生产消耗。

主权项

1.一种反应腔，其特征在于，所述反应腔包括腔本体和设置于所述腔本体内的支撑座和支架组件，所述支架组件包括第一支架和第二支架，所述第一支架的第一端和所述第二支架的第一端设置于所述支撑座上，所述第一支架的第二端和所述第二支架的第二端为自由端，且所述第一支架的第二端至所述支撑座的距离大于所述第二支架的第二端至所述支撑座的距离，所述第一支架的第二端用于朝向所述支撑座移动。